Обозначение | Заглавие на русском языке | Статус | Язык документа | Цена (с НДС 20%) в рублях |
|
Поверхностный химический анализ. Рентгеновские фотоэлектронные спектрометры. Калибровка энергетических шкал
|
Действует |
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
Анализ газа. Исследование и обработка аналитических отклонений
|
Действует |
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы ежедневной оценки характеристик рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Химический анализ поверхности. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия. Методы ежедневной оценки характеристик рентгеновского фотоэлектронного спектрометра
|
Действует |
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
Химический анализ поверхности. Оже-электронная спектроскопия. Регистрация и представление данных
|
Действует |
На языке оригинала
|
10962,00
|
Перевод на русский язык
|
21924,00
|
|
|
Химический анализ поверхности. Регистрация и представление данных в рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS)
|
Действует |
На языке оригинала
|
10962,00
|
Перевод на русский язык
|
21924,00
|
|
|
Оценка толщины, плотности и ширины поверхности раздела тонких пленок с помощью рентгеновской рефлектометрии. Инструментальные требования, выравнивание и позиционирование, сбор, анализ и представление данных
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Оценка толщины, плотности и ширины поверхности раздела тонких пленок с помощью рентгеновской рефлектометрии. Инструментальные требования, выравнивание и позиционирование, сбор, анализ и представление данных
|
Действует |
На языке оригинала
|
26274,00
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Методы выравнивания ионного пучка и связанное с этим измерение тока или плотности тока для профилирования глубины в AES и XPS
|
Действует |
На языке оригинала
|
22446,00
|
|
|
Анализ газа. Обращение с калибровочными газами и смесями. Руководящие указания
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Газовый анализ. Обращение с калибровочными газами и смесями. Руководящие указания
|
Действует |
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Анализ покрытий из металлов на основе цинка и/или алюминия методом оптико- излучательной спектрометрии с тлеющим разрядом
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда
|
Действует |
На языке оригинала
|
30102,00
|
|
|
Поверхностный химический анализ. Профилирование по глубине. Метод определения скорости напыления с помощью рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии при профилировании по глубине распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок
|
Действует |
На языке оригинала
|
22446,00
|
|
|
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флюоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра
|
Действует |
На языке оригинала
|
16704,00
|
|
|
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ
|
Действует |
На языке оригинала
|
3132,00
|
|
|
Анализ поверхностей химический. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод профилирования по глубине для бора в кремнии
|
Заменен |
На языке оригинала
|
Нет
|
|
|
Химический анализ поверхности. Масс-спектрометрия вторичных ионов. Метод профилирования по глубине для бора в кремнии
|
Действует |
На языке оригинала
|
10962,00
|
|
Страницы: 1 / 2 / 3 / 4 / 5 / 6 / 7 / 8 / 9 / 10 / 11 |